https://www.myziyuan.com/

- nij
- CVS源自Unix系统,其Windows的移植版并没有服务器功能。在Windows下一般采用安装CVSNT这个软件来建立CVS Repository,但CVSNT的操作方法和原始的CVS略微不同。 CVS本身是命令行形式,其配置过程比较繁杂。 CVS的多帐户配置需要手动修改Repository的CVSROOT文件夹里的文件,缺乏统一的界面。 在安装了CVSNT服务器之后,默认的用户就是建立Repository的Windows系统的登陆帐户,但在多人开发的时候,肯定没人希望大家都使用同一个名字来Commit;更重要的是,我们可能需要配置开发人员的权限,例如限制某些人只能看程序,而某些人可以Commit程序,某些人可以添加新的Module。以下是详细的步骤,环境是CVSNT 2.5.03 (Build 2151) + TortoiseCVS 1.8.25: 1. 使用CVSNT建立一个Repository。假设初始使用Windows的管理员administrator密码登陆,Repository使用Pserver协议,IP是1.2.3.4,端口号是2401,Repository名称是/TestRep,密码是123。这时的administrator也是此Repository的管理员。 2. 为了进行多用户配置,必须修改Repository的CVSROOT目录的几个文件。首先在客户端将:pserver:administrator@1.2.3.4/TestRep设为CVSROOT环境变量(请注意区分CVSROOT目录和CVSROOT环境变量)。然后用administrator登陆到CVS,最后Check Out出此CVSROOT目录。命令如下所示: cvs login //输入密码123 cvs co CVSROOT 3. 在服务器端为Windows添加一个专门用于CVS操作的Windows帐户。所有的CVS帐户都要映射到这个Windows帐户上进行实际的操作。虽然很多资料并没有提到需要建立Windows帐户,但我在实验中发现没有这种帐户,CVS在后边执行任何操作时都会报告没有此帐户的错误。假如这个新的帐户叫做cvsuser。使用Windows命令 net user cvsuser cvsuserpassword /Add 可以添加此帐户。在添加完成之后,一定要记得将/TestRep在服务器上的实际文件夹的权限里添加cvsuser的签名系统读写权限,否则到最后任何映射到cvsuser的CVS帐户都会因为没有写权限无法进行正常的commit操作。首先在服务器上的资源管理器里的“工具”菜单里找到“文件夹选项”,在随后出现的“查看”选项卡里找到“使用简单文件夹共享”的项目,取消掉前面的勾,单击确定。然后右击/TestRep所在文件夹,单击“属性”。在随后打开的对话框里可以看到“安全”选项卡。我们需要在这里添加cvsuser的读写权限。 4.为CVS添加自己的帐户。通过使用命令cvs passwd我们可以添加任意多个CVS帐户(当然,只是针对当前的Repository)。所有的帐户信息会被保存在CVSROOT目录的passwd文件当中。然而这个文件是不能Check Out出来的,只能在服务器那里看到它,并且其保存的密码信息是被加过密的。我们可以添加cvsadmin,user1,user2,anonymous等用户。例如添加cvsadmin时的命令是:cvs passwd -a -r cvsuser cvsadmin //输入cvsadmin的密码 //再次输入cvsadmin的密码 这样就新添了cvsadmin帐户,并将其映射到Windows帐户cvsuser上(-a表示添加一个账户,-r表示影射到操作系统的帐户中。我期望将cvsadmin作为以后/TestRep的管理员。这一点十分重要,如果这时候不设置的话,再将CVS改为“仅使用CVS帐户校验模式”之后就再也没有机会添加管理员了(因为只有管理员可以看得到和操作CVSROOT目录)。
- 2021-12-23 09:51:52
- LouisWang
- 循环伏安法(CVS)试验技术的原理和循环伏安法分析技术的实现是循环伏安剥离(CVS)可用于在电镀中实现1种有机和污染物的分析。罐中的添加剂最终影响电路板的金属涂层的延展性,拉伸甚至最终可焊性。有机添加剂的归一化检查是确保产品质量的重要手段。与哈雷斯槽不同,循环伏安分析(CVS)提供了更加定量的分析。Harbird麻烦能够提供定性分析,但循环伏安分析技术可以为用户提供准确的信息,以帮助他们更好地控制坦克。引言循环伏特溶解分析(CVS)可用于分析电镀溶液中的有机物,这也基于电镀中的槽中有机物质的反应。无论如何ER用户需要测试蜡状,抑制剂,甚至是扁平剂,或其他有机物质可以通过电镀速度反应。该分析过程的实现由三电极系统完成,其中工作电极是盘旋转电极。在测试期间,工作电极上的电流由仪器输出控制。电流将在设定的正电压和负电压之间扫描。在该过程中,罐中的金属在电极上不断汽提或沉积。还记录了工作电极。不同的特征添加剂最终将影响电极上的金属沉积速度。可以通过从工作电极剥离电流来计算电镀速度。剥离电流特征与添加剂的关系之间的关系也可以计算添加剂的成分。最终的测试结果也可以表现为浓度mL / L.这些测试数据我们可以使用MPC分析仪器。CVSMART是一种单一样本分析仪器,当然,外部自动滴定装置可用于自动分析。T100可以实现多转移的自动分析,并自动清洁测试。在典型的罐中测试槽曲线分析,以获得伏导映射(电流和施加电压)。X轴表示是潜力的变化:从负面到正面。Y轴表示测量的电流。金属沉积面积:该区域电流为负,此时金属沉积在上面。因为可以通过扫描速率准确地获得电镀时间,所以电镀速率也可以从中衍生。金属剥离区域:从电极表面剥离金属,此时电流为正。剥离金属条所需的功率量可以在正电流区域中表现出。是的计算A可以通过积分而获得。该区域通常使用MC表示。显然,金属和沉积金属的总量也是相同的,并且伏安ert上的正区域也与金属沉积的总量比例关系。我们还认为可以通过在剥离过程中计算电流区域来表达镀铜的量。由于在沉积过程中也可能发生其他电化学反应,例如氢反应。参考资料:
- 2021-12-23 09:50:35
- 893811145
- 什么是CVS,CVS是多个开发人员通过一个中心版本控制系统来记录文件版本,从而达到保证文件同步的目的。
- 2021-12-23 09:50:35